Sistema giratorio para control de la rotación de sustratos e implantación ióica
Sistema giratorio para control de la rotación de sustratos sometidos a implantación iónica
Nº Solicitud: U202532258 | Fecha solicitud: 12/11/2025
Invención de:
Javier Olea Ariza
Rafael Benítez Fernández
David Pastor Pastor
Gonzalo Gómez Muñoz
José Gonzalo de los Reyes
Javier Solís Céspedes
Titulares:
Universidad Complutense de Madrid
CSIC
Resumen
La presente invención se encuadra en el sector de equipos para implantación de iones en materiales semiconductores. De forma más concreta, se refiere a un sistema giratorio para el control de la rotación en equipos de implantación iónica con sistemas de inclinación respecto al haz de implantación.
Sector de la técnica
La presente invención se encuadra en el sector de equipos para implantación de iones en materiales semiconductores. De forma más concreta, se refiere a un sistema giratorio para el control de la rotación en equipos de implantación iónica con sistemas de inclinación respecto al haz de implantación.
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