MÉTODO DE FABRICACIÓN DE ESTRUCTURAS DE PUERTA DE TRANSISTORES MOSFET SOBRE SEMICONDUCTORES III-V
Método de fabricación de estructuras de puerta de transistores MOSFET sobre semiconductores III-V
Nº Solicitud: P201200664 | Fecha solicitud: 22/06/2012
Invención de:
María Ángela Pampillón Arce
Carmina Cañadilla Soto
Pedro Feijoo Guerro
Enrique San Andrés
Álvaro Del Prado Millán
María Luisa Lucía Mulas
Titulares:
Universidad Complutense de Madrid
Resumen
Esta invención propone aplicar la pulverización de alta presión de nanoláminas metálicas de escandio y un lantánido y su posterior oxidación por plasma temperatura ambiente sobre sustratos semiconductores III-V, de interés para dispositivos MOSFET, tanto planares como FinFETs. La ventaja de estos semiconductores es que tienen mayor movilidad de portadores en el canal que el Si, mayor transconductancia y menor retardo de conmutación con respecto a la tecnología actual.
Se obtienen estructuras MOS funcionales sobre semiconductores alternativos al Si con un óptimo recubrimiento de escalones. Solamente se necesitan tecnologías de vacío alto-medio y que tienen un menor impacto medioambiental que sus alternativas. Supone una simplificación del proceso de fabricación al no tener que realizarse ningún proceso de depuración-filtrado-limpieza de residuos muy dañinos para el medio ambiente y reducción de los tiempos de vacío previo al depósito.
Sector de la técnica
Esta invención se encuadra de la fabricación de dispositivos semiconductores, dentro del sector de la microelectrónica.
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Cristina de la Fuente
comercia@ucm.es